擴市場需求-增發展后勁
年末新熱潮
—A NEW YEAR-END BOOM—
頤光科技助力2000億專項貼息貸款科學儀器采購申報
助企紓困
HELP ENTERPRISES TO BAIL OUT
9月13日，國務院總理李克強主持召開國務院常務會議，決定進一步延長制造業緩稅補繳期限，加力助企紓困；確定專項再貸款與財政貼息配套支持部分領域設備更新改造，擴市場需求、增發展后勁，主要集中在科研機構、高校、職業院校、醫院、中小型企業等領域，總體規模將近1.7萬億。
人民銀行設立專項貸款
9月28日，中國人民銀行宣布設立設備更新改造專項再貸款，額度2000億元以上，支持金融機構以不高于3.2%的利率向10個領域的設備更新改造提供貸款。加上此前中央財政貼息2.5%的政策，今年第四季度內更新改造設備的貸款主體實際貸款成本不高于0.7%。
頤光科技
武漢頤光科技有限公司是國內專業從事高端橢偏儀及光學納米測量設備研發、制造與銷售的高新技術企業。
公司介紹
作為國內橢偏測量領域的標桿企業，公司擁有非常強大的技術團隊，現有員工50%以上擁有碩士或博士學位，同時與華中科技大學緊密合作，為科研和工業用戶提供儀器、軟件、服務等綜合解決方案。
產品應用
公司產品廣泛應用于集成電路、半導體、光伏太陽能、顯示材料、LED照明、存儲、生物、醫藥、化學、光學鍍膜、光刻材料等眾多領域。
產品介紹
橢偏儀系列產品
1
ME-L穆勒矩陣橢偏儀
介
紹
*全自動變角，對焦技術
*光學/結構各向異性表征能力
*雙旋轉補償器同步控制技術
*納米光柵結構表征能力
2
SE-VM光譜橢偏儀
介
紹
*快速無損，高精度測量表征
*可視化樣件臺調平技術
*微光斑集成，消背反測量能力
*模塊定制化，多功能擴展能力
3
SE-VE光譜橢橢偏儀
介
紹
*緊湊集成化設計，小巧輕便
*人性化設計，極致用戶操作體驗
*豐富的材料數據庫及算法模型庫
*一鍵快速測量，使用便捷
4
ME-Mapping光譜橢偏儀
介
紹
*全基片分布信息測量能力
*支持圖像識別，pattern區測量
*用戶自定義Recipe，一鍵調用
*支持2/4/6/8/12寸全基片定位測量
膜厚儀系列產品
1
SR-C反射膜厚儀
介
紹
*非接觸、非破壞式測量
*單點測試時間小于1秒
*配置靈活，支持在線集成
*免費定制數據庫
2
SR-M顯微膜厚儀
介
紹
*光斑可到2um
*支持圖像定位識別，定位測量區域
*用戶自定義Recipe，一鍵調用
*配置CCD相機，使用便捷
3
SR-Mapping膜厚儀
介
紹
*緊湊集成化設計，小巧輕便
*人性化設計，極致用戶操作體驗
*豐富的材料數據庫及算法模型庫
*支持2/4/6/8/12寸定位測量
技術優勢
全穆勒矩陣測量
儀器基于雙旋轉超級消色差補償器偏振調制技術，可一次性同時測量偏振信息的全穆勒矩陣（Muller Matrix）16個元素，代表當今橢圓偏振調制技術的最高水平。相比于傳統單軸旋轉偏振調制系統，高精度雙軸旋轉偏振系統不僅可以覆蓋常規單軸旋轉偏振調制測量需求，還可以滿足最新科研中所遇到最新有機半導體材料、二維材料所體現的各向異性和納米光柵結構形貌參數等單軸旋轉偏振技術難以測量表征的需求。
精密校準算法
頤光科技自主研發的PCrSCrA（雙旋調試）精密校準算法相較于常規PCrSA算法（單旋調制），基于數倍于測量偏振數據校準測量光路，大幅度提升了測量精度及擴大了應用場景。設備通過搭配寬光譜消色差波片和超靈敏的CCD光譜探測器，再結合PCrSCrA校準算法，可在全光譜精準校準下探測到深紫外（ DUV ）190nm波段。
<SiO2/Si深紫外波段區域數據擬合圖>
微光斑探測技術
頤光科技可提供30μm*50μm、80*100μm、100*120μm、200*240μm等多種尺寸探測光斑，并支持特定應用場景微光斑光路以及尺寸定制化，同時結合消背反光路，可完全消除雙拋透明襯底/半透明襯底的背面反射無效信息。
納米光柵grating表征能力
儀器采用自主研發的Grating建模分析算法模型，深度解析納米光柵Muller Matrix偏振光譜，精準提取對稱/非對稱納米壓印結構，獲取高深寬比納米柱陣列結構信息。
預知更多產品和應用詳情，可通過以下方式聯系我們
電話：+86(0)27-87001728
